2006年半导体光掩膜市场增长速度将下降在连续两年出现强劲增长之后，2006年半导体光掩膜（photomask）市场增长速度将放缓。TheInformationNetwork报道称。市场调研公司TheInformationNetwork预测2006年光掩膜市场将仅增长4.3%，达到销售额32亿美元。2004年和2005年的增长速度分别为18.7%和9.7%。

“虽然2006年半导体市场可望出现强劲的增长，对光掩膜的需求直接是设计活动的一种功能而不是来自使用光掩膜的产品的销售量。因此，半导体市场的增长将不必转化成光掩膜销售的增长。”TheInformationNetwork的主席RobertCastellano博士说道。

2006年，最大的资本性支出支出者中超过50%的公司将扩大存储器生产。一阶和二阶存储器供应商在2006年积极扩大销售量。这些变化将影响使用的光掩膜的类型以及数量。由于DRAM掩膜应用于相对更多的晶片，我们预测2006年光掩膜的产量会下降。

2005年，在购买DupontPhotomask之后，Toppan在全球商业市场排名第一，市场份额为38.7%。排名第二的是DNP，市场份额为32.0%。

TheInformationNetwork报道称日本光掩膜行业2005年收入增长21.0%，几乎占全球的45%，北美市场为3.27亿美元，欧洲光掩膜的产量只有温和的增长，增幅为3.9%。